ポイント1
6.78MHz・2MHz 2つの周波数
2つの周波数の組み合わせによって生まれたShallow・Middle・Deepの3段階の深さは、熱エネルギーの広がり方を示します。
2つの周波数でより深い層までエネルギーを届け、さらに力強い効果へ導きます。
ポイント2
ザーフならではの3段階の施術深度調整
従来のサーマクールなどのモノポーラ高周波機器とは異なり、ザーフはパルスを細かく分けて高周波エネルギーを届けるため、さまざまな皮膚層をより精密にターゲティングできます。
従来の機器では難しかった繊細なターゲティングが可能になり、施術部位や一人ひとりの肌の厚み・状態に合わせて、カスタマイズされたリフティングをご提供できます。
モノポーラ高周波
(サーマクールFLXなど)
真皮層全体をターゲット
バイポーラ・マイクロニードル高周波
上部真皮層をターゲット
ザーフ高周波
真皮〜皮下脂肪層、線維性隔膜をターゲット
ポイント3
より広いチップサイズで、より多くのエネルギーを伝達
同じ600ショット照射基準での総エネルギー伝達量の比較
ポイント4
従来のモノポーラ高周波機器の課題とされていたエッジエフェクトを大幅に改善
* エッジエフェクト:チップの端にエネルギーが集中する現象
高周波エネルギーがチップの中心に集まるよう設計され、
エッジエフェクトによる副作用〈やけど・エネルギーの偏りなど〉を防ぎます。
ポイント5
1ショットごとの照射エネルギー量に応じてパルスを調整し、痛みを軽減
* 1ショットごとに表面温度をモニタリングし、過度な温度上昇を防止
* 施術レベルに合わせた3段階クーリングで、過度な温度上昇を防止
表面温度モニタリングシステム
1ショットを照射するたびに、機器画面とハンドピースのディスプレイで表面温度を直感的に確認でき、過度な温度上昇を防ぎます。
エフェクターの表面温度が43℃を超えた場合、高周波出力が自動で停止します。